純凈水與純水的主要區別 　　在純水的制作中，水質標準所規定的各項指標應該根據電子(微電子)元器件(或材料)的生產工藝而定(如普遍認為造成電路性能破壞的顆粒物質的尺寸為其線寬的1/5-1/10)，但由于微電子技術的復雜性和影響產品質量的因素繁多，至今尚無一份由工藝試驗得到的適用于某種電路生產的完整的水質標準。電子級水標準也在不斷地修訂，而且高純水分析領域的許多突破和發展，新的儀器和新分析方法的不斷應用都為制水工藝的發展創造了條件。 　　在高純水的國家標準為：GB1146.1-89至GB1146.11-89[168]，目前我國高純水的標準將電子級水分為五個級別：Ⅰ級、Ⅱ級、Ⅲ級、Ⅳ級和Ⅴ級，該標準是參照ASTM電子級標準而制定的。 　　高純水的水質標準中所規定的各項指標的主要依據有：1.微電子工藝對水質的要求；2.制水工藝的水平；3.檢測技術的現狀。 　　高純水的生產過程中，水中的陰、陽離子可用電滲析法、反滲透法及離子交換樹脂技術等去除 　　水中的顆粒一般可用超過濾、膜過濾等技術去除 　　水中的細 菌，目前國內多采用加藥或紫外燈照射或臭氧殺菌的方法去除 　　水中的TOC則一般用活性炭、反滲透處理。 　　在高純水應用的領域中，水的純度直接關系到器件的性能

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