產(chǎn)品介紹

反滲透膜元件在正常運(yùn)行一段時(shí)間后，會(huì)受到在給水中可能存在的懸浮物質(zhì)或難溶物質(zhì)的污染。這些污染物中 常見(jiàn)的為碳酸鈣垢、硫酸鈣垢、金屬氧化物垢、硅沉積物及有機(jī)或無(wú)機(jī)沉積物。污染物的性質(zhì)及污染速度與給水條件有關(guān)，污染是慢慢發(fā)展的，如果不在早期采取措施，污染將會(huì)在相對(duì)短的時(shí)間內(nèi)損壞膜元件的性能。定期檢測(cè)系統(tǒng)整體性能是確認(rèn)膜元件發(fā)生污染的一個(gè)好方法，不同的污染物會(huì)對(duì)膜元件性能造成不同程度的損害。

產(chǎn)品介紹

反滲透膜元件在正常運(yùn)行一段時(shí)間后，會(huì)受到在給水中可能存在的懸浮物質(zhì)或難溶物質(zhì)的污染。這些污染物中 常見(jiàn)的為碳酸鈣垢、硫酸鈣垢、金屬氧化物垢、硅沉積物及有機(jī)或無(wú)機(jī)沉積物。污染物的性質(zhì)及污染速度與給水條件有關(guān)，污染是慢慢發(fā)展的，如果不在早期采取措施，污染將會(huì)在相對(duì)短的時(shí)間內(nèi)損壞膜元件的性能。定期檢測(cè)系統(tǒng)整體性能是確認(rèn)膜元件發(fā)生污染的一個(gè)好方法，不同的污染物會(huì)對(duì)膜元件性能造成不同程度的損害。

常見(jiàn)污染物及其去除方法

1.碳酸鈣垢

在阻垢劑添加系統(tǒng)或加酸系統(tǒng)出現(xiàn)故障而導(dǎo)致給水pH值升高時(shí)，那么碳酸鈣就有可能沉積出來(lái)。應(yīng)盡早發(fā)現(xiàn)碳酸鈣垢沉淀的發(fā)生，以防止生長(zhǎng)后的晶體對(duì)膜表面產(chǎn)生損傷。如早期發(fā)現(xiàn)碳酸鈣垢，可以用降低給水pH至3.0-5.0，運(yùn)行1-2小時(shí)的方法去除。對(duì)沉淀時(shí)間更長(zhǎng)的碳酸鈣垢，則應(yīng)采用2%的檸檬酸清洗液（控制pH不小于4.0）進(jìn)行清洗。

注：應(yīng)確保任何清洗液的pH不要低于4.0，否則可能會(huì)對(duì)反滲透膜元件造成損害，特別是在溫度較高時(shí)更應(yīng)注意，pH不應(yīng)高于10.0。可使用NaOH來(lái)提高pH，使用H2SO4或HCL來(lái)降低pH值。

2.硫酸鈣垢

清洗液（三聚磷酸鈉 EDTA四鈉鹽（乙二胺四乙酸）反滲透產(chǎn)品水（無(wú)游離氯））是將硫酸鈣垢從反滲透膜表面去除的適合方法。

3.金屬氧化物垢

可以使用上面所述的去除碳酸垢的方法，來(lái)去除沉積下來(lái)的氫氧化物（例如氫氧化鐵）。

4.硅垢

對(duì)于不是與金屬化物或有機(jī)物共生的硅垢，一般只有通過(guò)專門(mén)的清洗方法才能將其去除。

5.有機(jī)沉淀物

有機(jī)沉積物（例如微生物粘泥或霉斑）可以使用清洗液（三聚磷酸鈉 十二烷基苯磺酸鈉 反滲透產(chǎn)品水（無(wú)游離氯））去除，為了防止再繁殖，可使用經(jīng)公司認(rèn)可的殺菌溶液在系統(tǒng)中循環(huán)、浸泡，一般需較長(zhǎng)時(shí)間浸泡才能有效。如反滲透裝置停用超過(guò)三天時(shí)，應(yīng)該采用消毒處理，與公司會(huì)商后確定適宜的殺菌劑。

6.清洗液

確定清洗液前對(duì)污染物進(jìn)行化學(xué)分析是十分重要的。對(duì)分析結(jié)果的詳細(xì)分析比較，可保證選擇適合的清洗劑及清洗方法。應(yīng)記錄每次清洗時(shí)的清洗方法及獲得的清洗效果，為在特定給水條件下，找出適合的清洗方法提供依據(jù)。