全新立式全譜光譜采用國際標準的設計和制造工藝技術,采用全數字技術,替代龐大的光電倍增管(PMT)模擬技術,與國際光譜儀技術同步,采用真空光學室設計及全數字激發光源、 的CCD檢測器,高速數據讀出系統,使儀器具有極高的性能、極低的檢出線、長期的穩定性和重復性。適用于金屬制造業、加工業及金屬冶煉業用于質量監控、材料牌號識別、材料研究和開發的主要設備之一。
主要技術參數:光學系統:帕型)-龍格羅蘭圓全譜真空型光學系統;
波長范圍:170nm580nm
焦距:400mm
探測器:高性能CCD陣列
光源類型:數字光源,高能預燃技術(HEPS)
放電頻率:100-1000Hz
放電電流: 400A
工作電源:220VAC 50/60Hz
儀器尺寸:720860500
儀器重量:約100kg(不含真空系統)
檢測時間:依據樣品類型而定,一般25S左右
電極:鎢材噴射電
光學恒溫:34± 0.3
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