振動電鍍的滾筒形狀為“圓篩”或“圓盤”狀,滾筒內零件的運動靠來自振蕩器的振動力來實現。所以,振動電鍍的滾筒一般被形象地稱作“振篩”。振篩的振動軸向與水平面垂直,則振篩內零件的運動方向為水平方向。
振動電鍍的振篩結構和振動軸向與傳統臥式滾筒有著本質的區別,所以會產生與傳統臥式滾鍍迥然不同的效果:
①振篩的料筐上部敞開后,徹底打破了傳統臥式滾筒的封閉式結構,江北區滾鍍設備爬坡線,消除了滾筒內外的離子濃度差。所以,江北區滾鍍設備爬坡線,由滾筒封閉式結構帶來的滾鍍的缺點得到很大程度的改善。例如,江北區滾鍍設備爬坡線,鍍層沉積速度快、厚度均勻及零件低電流區鍍層質量好等。
②通過控制振篩的振動頻率或振幅等條件,可以達到控制零件在振篩內混合條件的目的,從而可將各零件的鍍層厚度波動性控制到 小。
③電鍍時使用大的電流密度并同時進行著機械光整作用,鍍層結晶細致,表面光亮度高。④對零件的擦傷、磨損等均小于其它滾鍍方式。
電鍍槽:
電鍍用的鍍槽包括電鍍生產中各工序的專用槽體。不光只是電鍍槽,還包括前處理用的除油槽、酸洗槽和清洗槽,、活化槽,后處理的鈍化槽、,熱水槽等。由于電鍍用槽仍然屬于非標準設備,其規格和大小有很大變通空間的設備。小到燒杯,大到水池都可以用來做鍍槽,因為只要能將鍍液裝進去而不流失的裝置,就可以做鍍槽用,,就是實際電鍍工業生產中所用的鍍槽也是五花八門,并沒有統一的標準,這種狀況對加強電鍍管理是不利的。
當然,正式的電鍍加工都會采用比較可靠的硅整流裝置,并且主要的指標是電流值的大小和可調范圍,電壓則由0~18V隨電流變化而變動。根據功率大小而可選用單相或三相輸入,要能防潮和散熱。工業用電鍍電源一般從到幾千安不等,通常也是根據生產能力需要而預先設計確定的,比較好是單槽單用,不要一部電源向多個鍍槽供電。如果只在實驗室做試驗,則采用5的小型實驗整流電源就行了。
1993年我國機械工業部專家編制了電鍍用整流設備的標準
,對我國設計和生產的電鍍整流器的型號、規格、技術參數等都作出了相關規定。隨著電力科學技術的進步,在整流電源的設計和制作上已經有很大改進,很多電鍍電源已經向多功能、大功率、小體積等方向發展。自動換向、可調脈沖、平滑調節等都已經是常見的功能。常用的風冷式可控硅整流器的技術規格見表。
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